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      產品&服務 Products & services
      原子層沉積設備ALD
        原子層沉積是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法,是制備薄膜材料的重要方法之一。它的特點是自限制性,這也決定了原子層沉積技術具有厚度高度可控、優異的均勻性及良好的保形性等眾多優點,尤其擅長高深寬比圖形填充。原子層沉積技術被廣泛應用在HKMG、Double Pattern、Dielectric、MEMS、Memory等多個領域。該技術已經成為制備各種功能薄膜的重要手段。北方華創微電子突破了前驅物輸運系統控制技術、均勻穩定的反應室熱場及流場控制技術、等離子產生與控制技術、脈沖射頻的快速調頻匹配技術、高效無損傷原位清洗技術及軟件控制技術等多項關鍵技術,建立了具有自主知識產權的核心技術優勢。北方華創微電子先后研制了具有自主知識產權的熱原子層沉積(Thermal ALD)設備、等離子體增強原子層沉積(PEALD)設備兩個系列產品,可沉積Oxide(HfO2/Al2O3)、Metal(TiN/TaN)、PE-SiN、PE-SiO2等多種薄膜。
      集成電路 IC
      先進封裝 Advanced Packaging
      微機電系統 MEMS
      半導體照明 LED
      功率器件 Power Devices
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